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PVD涂层处理 模具/抛光件

PVD涂层处理-模具/抛光件PVD涂层工艺已经被设计用于沉积到高度抛光的模具、工具和组件上,而不会降低现有的表面条件。我们采用显著减少大颗粒夹杂物的技术,从而避免表面粗糙度显著增加或失去光泽。所期望的表面光洁度被锁定在极硬、致密的膜下,具有改进的摩擦系数和比未涂覆的钢低的表面能。

在零件释放、材料流动和耐磨性方面都有改进,这将转化为更有效的零件生产。此外,我们涂层可以消除某些生产所需的许多日常和定期的清洁:这种增加的运行时间意味着更有效的生产和更低的制造成本。

此外,我们避免了其他电镀工艺的一些缺陷。与目前的镀铬和镀镍工艺相比,通过我们的工艺沉积的涂层的均匀性提供了优越的密度。消除了电解和无化学镀工艺固有的微裂纹和后处理。此外,我们的涂层可以从大多数基材上脱涂层,不会对底层材料和表面状况造成任何不利影响。

PVD涂层的效益

  • 密切复制现有表面光洁度

  • 超高硬度

  • 附着力大

  • 控制厚度

  • 附加腐蚀防护

  • 低摩擦系数

  • 低表面能

  • 无需涂布抛光剂。

  • 比铬更具化学惰性

  • 涂层可安全脱胶

PVD涂层处理-模具/抛光件
这25×25μm原子力显微镜图像显示通过典型的PVD TiN工艺产生的宏观颗粒和夹杂物的类型。嵌入的颗粒会产生朦胧的表面,并降低表面状况。
PVD涂层处理-模具/抛光件
这幅25x 25 m的AFM图像:大颗粒已经被“过滤”以产生几乎无缺陷的涂层,并且适合于大多数光学应用,包括透镜模具等

凹凸体PVD涂层参数

Proprietary NameCompositionColorThickness (microns)Micro-Hardness (HV)Maximum Working TemperatureCoating Process Temperature
 CTiNGold1-52300-2500600C / 1112F375C / 707F
 C3CrN/CrCSilver1-52000-2200700C / 1292F375C / 707F
 C5TiCNBronze/Gray1-52800-3200400C / 752F375C / 707F
 C11DLC (a-C:H)Black1-42000-3000350C / 662F220C / 428F
数据已从实验室样本中生成。特性可以根据客户的材料、表面状况和零件几何形状而变化。

C (TiN)

这是一个神奇的通用涂层,用于大多数塑料注塑成型应用。除了非常好的磨损和释放特性外,锡层还提供了良好的抗HCl气体腐蚀

C3 (CrN/CrC)

由于铬基组成,主要用于橡胶和压铸(铝和锌)成型应用。这种涂层也非常好地保护模具表面免受化学侵蚀,特别是氟化氢(HF)气体。

C5 (TiCN)

当需要额外的耐磨性时,通常使用这种TiN/TiCN多层薄膜涂层。该膜的显微硬度越高,磨损特性越强。C5用于模具部件,其具有较高的载荷和磨损。

C11 (DLC)

这种涂层的结合很好的硬度特性具有非常低的摩擦系数给优良的摩擦磨损保护。该涂层可以改善材料的流动和模具零件,并且效果特别好的运动部件,如针。

PVD涂层处理参数表
PVD涂层处理参数表